就在几个月前，安城对于芯片制造还是一个完全的外行人。

        不过，经过这几个月的努力，他也算是了解了很多的东西。

        比如，光刻机的频率跟芯片的制程并不是一回事儿。

        90n的光刻机，这个90n指的是一次曝光生产芯片时的标准制程工艺。

        这样的光刻机采用的光源是193nduv深紫外光，跟阿斯麦28n的光刻机光源是一样的。

        而28n制程的芯片，这个28n指的就是晶体管中栅极的宽度。

        90n光源的光刻机通过多重曝光等工艺加持，是可以制造28n级别的芯片的。

        不同的芯片企业，不同的制造工艺对芯片制程和性能的影响也是非常巨大的。

        同样使用阿斯麦的193nduv深紫外光光源的28n光刻机，台积电能制造改名的玩意。

        比起台积电的性能更差，耗电还更高。

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