知道在超大规模集成电路的工艺中，193n光刻波长的衍射、干涉等光学临近效应会形成致命问题。

        她虽然不知道这个修正算法的难度有多大，但想来也会简单。

        经过这些日子的了解，林欣可是知道，除了光刻机镜头之外，解决光衍射、干涉等光学临近效应的问题，也是光刻机技术突破的关键因素。

        如果光学临近效应这个问题能够解决，28n甚至级别的光刻机技术就又能向前一步了！

        国内厂商，苦苦研究十几年而不得的技术，郭一说改进就改进了？

        “其实也没有那么难，只要细致观察，仔细推理，这其中的修正方案也并不难实现。”

        郭一说道：“无非是改进了一下修正模型，使得建立的光刻模型更加精确、计算速度更快了一点，仅此而已。”

        “模型更精确，速度反而更快了，还说仅此而已？”林欣嘟囔道：“真是一个非人类。”

        “哈哈！”郭一可是注意到了，林欣说这话的时候，那可是满脸的骄傲神色。

        ……

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