郭一连续好几天都在a1厂出没，寻找这可以提升芯片制造工艺的关键点。

        材料热膨胀相互的影响，光的衍射对于光刻的影响，线宽控制的几个常规改进，光学近距效应修正，硅片平台水平控制的关键因素，光刻胶涂胶工艺的改进……

        ……

        随着每天在工厂观摩推演芯片制造的整个流程，郭一的小本本上记满了各种可以对工艺有明显改进的方法。

        “安叔，召集工程师们，开会。”

        郭一虽然不喜欢开会，但是必须开的会还是要开，有些事儿必须亲自交代。

        这些天，记录的这些工艺进程改进绝对足以满足工艺的改进需求，但具体的操作还需要这些工程师们去做。

        还有一点就是，魔都微电子的这台光刻机的控制精度根本无法满足郭一的控制需求，必须对其控制系统进行改进才可以。

        控制系统的改进，换成其他人根本就不可能，魔都微电子也不可能把控制系统的源代码公开。但对于郭一来说，这根本不算大问题，通过推演，他能反编译出所有的项目代码，然后找出其中的性能瓶颈点。

        按照郭一的想法，这台光刻机的硬件也有短板，明明光源都是193n波长的深紫外光，为什么阿斯麦就可以生产出14n甚至的duv光刻机？

        而魔都微电子还只能生产90n，28n什么时候能够真正出货还不知道呢，问题究竟出在哪儿？

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